英特尔展示ASML开箱视频

从去年末开始，ASML陆续向英特尔开始交付其首款高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）光刻系统。在上周末，英特尔发布了一段视频，展现了该设备在俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂内安装过程。该设备将主要用于研发目的。

ASML的Twinscan EXE:5000高数值孔径EUV光刻机体积庞大，运送该机器需要250个货箱，总重达到165吨。视频显示，一架货运飞机将这台设备从荷兰运送到俄勒冈州波特兰，接着通过卡车将其关键部件运往工厂。视频中该设备已经安装在工厂中，但是ASML和英特尔的工程师还需大约六个月时间来完成校准工作。两家公司合作启动该设备，让光子精确地击中晶圆上的抗蚀剂，就像ASML的工程师们最近在荷兰的费尔德霍芬演示的那样。

ASML的高数值孔径EUV Twinscan EXE工具能够实现8nm的打印分辨率，远远超过英特尔当前使用的扫描器性能，后者的单次曝光分辨率仅为13nm。这项进步使得制造的晶体管尺寸可比目前缩小约1.7倍，从而将晶体管密度提高近三倍。实现8nm的关键尺寸对于生产采用亚3nm工艺技术的芯片至关重要，这是业内期待在2025到2026年间达成的目标。

英特尔计划主要利用Twinscan EXE:5000光刻工具研究高数值孔径EUV技术的应用。公司打算在先在英特尔18A工艺技术中测试，并最终计划在其英特尔14A制造流程中采用此技术进行大规模生产。

ASML先前宣布，其下一代高数值孔径EUV芯片制造工具的价格将是当前低数值孔径EUV光刻工具的两倍多，即约3.8亿美元（3.5亿欧元）。但确切价格将根据设备的具体配置而定——英特尔CEO帕特·格尔辛格最近表示，这台机器的成本约为“4亿左右”。

与此相比，现有低数值孔径Twinscan NXE EUV系统的价格约为1.83亿美元（1.7亿欧元），具体价格依据型号和配置有所变化。英特尔可能是首批获得这种先进制造工具的公司，但ASML已表示已接到来自英特尔、三星、SK海力士和台积电等公司“10到20个”订单。

英特尔的这些努力，不仅对其自身的竞争地位至关重要，也对整个半导体产业的健康发展和技术进步具有重要影响。如果英特尔能够成功实现其目标，那么这将有助于打破台积电的技术垄断，为全球半导体行业带来更多的竞争和创新，从而推动整个行业的持续发展和进步。